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Givenchy Givenchy Skin Ressource Intense Hydra-Relief Mask

UVP* € 67,00
50 ml

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Eine kühle, umhüllende Gel-Textur, die die Haut sofort erfrischt und tiefgehend¹ mit Feuchtigkeit versorgt. Die feuchtigkeitsspendende Gesichtsmaske von Givenchy Skin Ressource enthält einen hochwirksamen Aloe-Moos-Extrakt in einer zu 97 % natürlichen Formel² und spendet der Haut sowohl in den oberen als auch in den tieferen Schichten der Epidermis intensive und lang anhaltende 72-Stunden-Feuchtigkeit³. Für intensive⁴ Feuchtigkeit, ein beruhigendes Gefühl und eine strahlende Ausstrahlung im Handumdrehen. ¹Epidermale Schichten der Haut. ²Basierend auf der Norm ISO 16128. Einschließlich Wasser. Die restlichen 3 % tragen zur sensorischen Textur der Formel und ihrer Integrität bei. ³Instrumenteller Test, 30 Probanden. ⁴ Selbstbeurteilung durch Einstufung, 33 Probanden, nach 28 Tagen.
Verwende die Skin Ressource Intense Hydra-Relief Maske zweimal pro Woche, morgens oder abends, um der Haut einen sofortigen Feuchtigkeitsschub zu geben. SCHRITT 1 Morgens: Eine dünne Schicht auf die gereinigte Haut auftragen. Abends: Trage eine dicke Schicht auf die Haut auf, als letzten Schritt der Hautpflegeroutine. SCHRITT 2 Mit den Fingerspitzen gleichmäßig auf dem gesamten Gesicht verteilen, dabei die Augen- und Mundpartie aussparen.SCHRITT 3 Morgens: Lasse die Maske 10 bis 15 Minuten einwirken, bevor mit der täglichen Skin Ressource Hautpflegeroutine fortgefahren wird. Entferne bei Bedarf überschüssige Reste mit einem in der Skin Ressource Lotion getränkten Wattepad. Abends: Massiere die Maske ein und lindere Spannungsgefühle, indem sich Zeige- und Mittelfinger scherenförmig vom unteren Teil des Gesichts nach oben bewegen. Lasse die Maske über Nacht einwirken.
Aqua (Water), Glycerin, Propanediol, C9-12 Alkane, Polyglycerin-3, Isomalt, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Carbomer, Parfum (Fragrance), Phytosteryl/Octyldodecyl Lauroyl Glutamate, Chlorphenesin, Coco-Caprylate/Caprate, Tocopheryl Acetate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Xylitol, Sodium Hydroxide, Hydroxyacetophenone, Sodium Hyaluronate, Inositol, Pentaerythrityl Tetra-Di-T-Butyl Hydroxyhydrocinnamate, Caprylyl Glycol, Helichrysum Italicum Extract, CI 42090 (Blue 1), Phytol, Tocopherol, Ketoglutaric Acid
Givenchy Skin Ressource Intense Hydra-Relief Mask
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